Doppelbelichtung und Replikation von Mikrostrukturen für die optische Informationsverarbeitung


Wohlfeld, Denis ; Scheffelmeier, S. ; Brenner, Karl-Heinz


URL: http://www.dgao-proceedings.de/download/107/107_p5...
Dokumenttyp: Konferenzveröffentlichung
Erscheinungsjahr: 2006
Titel einer Zeitschrift oder einer Reihe: DGaO-Proceedings : Online-Zeitschrift der Deutschen Gesellschaft für Angewandte Optik
Band: 107
Ort der Veröffentlichung: Erlangen-Nürnberg
Verlag: Dt. Ges. für Angewandte Optik
ISSN: 1614-8436
Sprache der Veröffentlichung: Deutsch
Einrichtung: Fakultät für Wirtschaftsinformatik und Wirtschaftsmathematik > Optoelektronik (Brenner)
Fachgebiet: 004 Informatik
Abstract: Für eine kostengünstige Replikation von Mikrostrukturen muss die Entformbarkeit der Strukturen gewährleistet sein. Das Konzept der Doppelbelichtung für die UV-Tiefenlithographie ermöglicht die Herstellung von entformbaren, hochkompakten optisch-passiven Mirkrostrukturen.
Zusätzliche Informationen: Online Ressource

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Wohlfeld, Denis und Scheffelmeier, S. und Brenner, Karl-Heinz (2006) Doppelbelichtung und Replikation von Mikrostrukturen für die optische Informationsverarbeitung. 2006 Erlangen-Nürnberg [Konferenzveröffentlichung]



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