Doppelbelichtung und Replikation von Mikrostrukturen für die optische Informationsverarbeitung


Wohlfeld, Denis ; Scheffelmeier, S. ; Brenner, Karl-Heinz



URL: http://www.dgao-proceedings.de/download/107/107_p5...
Dokumenttyp: Konferenzveröffentlichung
Erscheinungsjahr: 2006
Titel einer Zeitschrift oder einer Reihe: DGaO-Proceedings : Wissenschaftliche Online-Zeitschrift der Deutschen Gesellschaft für angewandte Optik
Band/Volume: 107
Ort der Veröffentlichung: Erlangen-Nürnberg
Verlag: Dt. Ges. für Angewandte Optik
ISSN: 1614-8436
Sprache der Veröffentlichung: Deutsch
Einrichtung: Fakultät für Wirtschaftsinformatik und Wirtschaftsmathematik > Optoelektronik (Brenner 1999-2008)
Fachgebiet: 004 Informatik
Abstract: Für eine kostengünstige Replikation von Mikrostrukturen muss die Entformbarkeit der Strukturen gewährleistet sein. Das Konzept der Doppelbelichtung für die UV-Tiefenlithographie ermöglicht die Herstellung von entformbaren, hochkompakten optisch-passiven Mirkrostrukturen.
Zusätzliche Informationen: Online Ressource




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